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復旦大學研發(fā)納秒級超快閃存技術,突破存儲速度極限

更新:2024年08月19日 17:05 大學路

今天大學路小編為大家?guī)砹?a target="_blank" href="/academy/detail/639.html" title="復旦大學">復旦大學研發(fā)納秒級超快閃存技術,突破存儲速度極限,希望能幫助到大家,一起來看看吧!復旦大學研發(fā)納秒級超快閃存技術,突破存儲速度極限

  8月13日,記者從復旦大學獲悉,該校周鵬-劉春森團隊從界面工程出發(fā),在國際上首次實現(xiàn)了最大規(guī)模1Kb納秒超快閃存陣列集成驗證,并證明了其超快特性可延伸至亞10納米。相關研究成果12日發(fā)表于國際期刊《自然·電子學》。

  人工智能的飛速發(fā)展迫切需要高速非易失存儲技術,當前主流非易失閃存的編程速度普遍在百微秒級,無法支撐應用需求。該研究團隊在前期發(fā)現(xiàn)二維半導體結構能夠將其速度提升一千倍以上,實現(xiàn)顛覆性的納秒級超快存儲閃存技術。但是,實現(xiàn)規(guī)模集成、走向實際應用仍具有挑戰(zhàn)。

  為此,研究人員開發(fā)了超界面工程技術,在規(guī)?;S閃存中實現(xiàn)了具備原子級平整度的異質界面,結合高精度的表征技術,顯示集成工藝優(yōu)于國際水平。研究人員通過嚴格的直流存儲窗口、交流脈沖存儲性能測試,證實了二維新機制閃存在1Kb存儲規(guī)模中,在納秒級非易失編程速度下的良率可高達98%,這一良率高于國際半導體技術路線圖對閃存*89.5%的良率要求。

  同時,研究團隊研發(fā)了不依賴先進光刻設備的自對準工藝,結合原始創(chuàng)新的超快存儲疊層電場設計理論,成功實現(xiàn)了溝道長度為8納米的超快閃存器件。該器件是目前國際最短溝道閃存器件,突破了硅基閃存物理尺寸極限,約15納米。在原子級薄層溝道支持下,這一超小尺寸器件具備20納秒超快編程、10年非易失、10萬次循環(huán)壽命和多態(tài)存儲性能。

  研究人員介紹,此項研究工作將推動超快閃存技術的產業(yè)化應用。

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